UV-C 紫外线消毒 – 飞利浦专业照明

应对挑战

空气和饮用水的质量以及我们所处环境的表面清洁度都会对我们的健康和幸福感产生深远的影响。我们每个人都面临着感染或传播病毒和细菌的风险，但面临最大风险的莫过于在医院和医疗保健机构接受治疗的患者，他们极易受到病毒和细菌的影响。这是因为任何形式的感染都会给他们的康复带来复杂的影响。尽管我们的 UV-C 紫外线产品并非直接用于对患者提供治疗，但它们有助于对可能带来危险的病毒和细菌进行灭活，从而对治疗产生积极影响。

C段紫外线（UV-C）辐射是一种公认的消毒方法，已广泛使用 40 多年。它适用于空气、水和物体表面，可帮助减轻感染风险_¹。UV-C 消毒对迄今为止经过测试的所有细菌和病毒（多年来已有数百种经过测试，包括各种冠状病毒）都有作用_²。目前还没有已知能够耐受UV-C紫外线的病菌。这清楚地表明，UV-C 紫外线可在您的防护策略中发挥重要作用。

什么是紫外线技术？

紫外线（UV）是肉眼不可见的光，分为 UV-A、UV-B 和 UV-C三段。

UV-C紫外线的波长范围为 100-280纳米（nm）。从图中可以看出，杀菌作用在波长为 265 纳米时最大，在两侧均有所减弱。飞利浦的低压 UV-C紫外线灯的主发射波长为 254纳米，此波长对DNA的作用为峰值的85%，在美国照明工程学会（IES）的标准配光曲线上为 80%。因此，我们的消毒产品能够有效地破坏微生物的DNA。这意味着微生物无法复制并引发疾病³。

微生物对紫外线的有效抗性千差万别。此外，微生物所处的环境也会极大地影响灭活微生物所需的辐射剂量。

下载紫外线应用信息

UV-C紫外线的技术优势

灭活微生物

经证实，可有效灭活病毒、细菌、霉菌和芽孢。

防止微生物生长

保持水箱表面清洁，避免生物附着。保持空气处理系统洁净。

可靠的消毒

消毒效果与紫外线辐射剂量（辐射照度乘以辐射时间）相关。可以通过经验证的系统设计，便捷地评估有效性。

经济便捷

UV-C紫外线设备的投资和运营成本低，操作和维护便捷。

为何选择飞利浦紫外线产品？

输出稳定

我们所有的低压紫外光源都带有特殊涂层，可确保使用寿命内UV-C紫外线输出始终保持在 85% 以上。

高品质光源

采用先进的自动化生产线进行电极加工和输出剂量检验。所有产品均经过检验，确保符合飞利浦品质要求，保证质量稳定。

经验丰富

超过35年的UV-C紫外线产品开发和制造经验。

应用广泛

适用于各种专业和家居领域。

应用领域

飞利浦提供全系列紫外线光源和驱动器，适用于家居净水和空气处理、市政和工业水净化以及商业和专业空气净化等各种应用领域。

空气

表面

水

注意事项

UV-C紫外线产品由了解其使用方法的专业人士使用时可将其风险降低至最小。使用者必须遮挡自己的眼睛和皮肤，以避免光照受损以及对眼睛和皮肤的严重伤害。我们建议客户谨慎选购设备，并查看第三方测试的证明，以及 NSF、UL、CSA、DVGW-OVGW 等知名机构对设备材料和电子元件的认证，或其他适用的国际要求。

目前，我们的UV-C紫外线产品均未根据任何适用法律认证或批准用作医疗器械或用于医疗器械表面杀毒，昕诺飞和/或其集团公司目前未计划在世界任何地方将其用作医疗器械或用于医疗器械表面杀毒。

EPA 报告《进行建筑改造，以提高对空气中化学和生物释放物的防护能力》(Building Retrofits for Increased Protection Against Airborne Chemical and Biological Releases) 第 56 页
《实现细菌、原生动物、病毒和藻类增量对数灭活所需的注量（紫外线剂量）》(Fluence (UV Dose) Required to Achieve Incremental Log Inactivation of Bacteria, Protozoa, Viruses and Algae)，由 Adel Haji Malayeri、Madjid Mohseni、Bill Cairns 和 James R. Bolton 修订、更新和扩充。早期供稿者为 Gabriel Chevrefils（2006 年）和 Eric Caron（2006 年），由 Benoit Barbeau、Harold Wright（1999 年）和 Karl G. Linden 进行同行评审
《脉冲与连续紫外光源用于表面去污的效果比较》(A comparison of pulsed and continuous ultraviolet light sources for the decontamination of surfaces)。McDonald K.F.、Curry R.D.、Clevenger T.E.、Unklesbay K.、Eisenstark A.、Golden J.、Morgan R.D.IEEE Trans.Plasma Sci. 2000；28:1581–1587。doi：10.1109/27.901237。